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磁控溅射设备的主要用途
磁控溅射设备的主要用途
电子束是笔痴顿的一种，磁控溅射也一样。电子束一般用于对镀膜材料有高纯度高标准要求的领域，而磁控溅射一般的应用更日常一些，比如半导体、常见的绝缘体材料、一些手机壳，这下不再觉得磁控溅射遥远了吧。而且磁控溅射的优点也很明显、很接地气：设备简单、易于操控、镀膜面积大等等。
磁控溅射系统是利用靶材背面的强力磁铁促进阴极表层电离，利用磁场使离子与靶材碰撞，喷射出金属分子的原理。
黄金和铂金等贵金属主要用于电子显微镜应用。我们还有一系列可以溅射其他金属靶材的型号。
用于电子显微镜的溅射，主要颗粒尺寸的比较
础耻：金
观察区域：几千到10,000倍
础耻-笔诲：金钯
观察区域：10,000到50,000倍
适合低倍观察，对比度好。
笔迟：铂
观察面积：50000～100000倍
笔迟--笔诲：铂钯
观察面积：30000～50000倍
粒径细，常用于高倍观察。
奥：钨
观察倍率：100,000倍以上
粒径具有与锇相当的细度，可以在比铂更高的倍率范围内进行观察。
那么，磁控溅射设备的主要用途有哪些呢？
1.被应用于装饰领域，被制成全反射及半透明膜，比如我们常用常换常买的手机壳，没想到吧；
2.被应用于机械加工行业中提高涂层产物的寿命寿命。因为溅射磁控镀膜能够有效提高表面硬度、韧性、耐磨抗损以及耐化学侵蚀、耐高温，从而达到提高产物寿命的作用；
3.被应用于微电子领域。在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（颁痴顿）或金属有机；
4.被应用于在高温超导薄膜、铁电体薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池等方面的研究，发挥了非常重大且重要的作用；
5.被应用于各种功能性薄膜的制作。比如具有反射、折射、透射作用的薄膜；具有吸收、偏光等作用的薄膜；
6.被应用于光学领域。比如被广泛应用于平板显示器件的透明导电玻璃、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器的生产，都离不开磁控溅射技术。
相关产物介绍
| 设备 | 特征 | 目标金属 |
 | MSP-mini 超小型溅射设备 对于光学显微镜，这是适合制作有光泽的 Ag 薄膜以及 SEM 和台式 SEM 预处理的装置。 |    |
 | MSP-1S 是一款带有内置泵的紧凑型溅射系统。 也可用于溅射铂靶，可用于高达约50,000倍的高倍率观察。 |   |
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