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使用高真空泵系统（可选）沉积
的单层石墨烯/Ni 的光学显微图像

　基板的快速冷却据说是通过使用碳氢化合物气体（CH4 和 C2H2）的 CVD 方法在催化剂基板（Ni、Cu 等）上生长石墨烯薄膜的重要因素之一。

　该装置配备了仅允许加热部分滑动而炉芯管保持原样的机构。这种滑动机构允许炉子的热区快速从样品位置移开，从而使样品快速冷却。此外，通过安装可选的高真空排气系统，可以轻松沉积更大面积的单层石墨烯薄膜。

使用高真空泵系统（可选）沉积的单层石墨烯/Ni 的拉曼光谱

加热期间（载玻片移动前）

冷却时（滑动移动后）

*实际产物可能与照片略有不同。

目的 ：	这是用于合成石墨烯薄膜的管式炉（50尘尘φ）型热颁痴顿设备。
特征 ：	配备炉膛滑动机构，可快速加热/冷却样品 　叁系统质量流量气体流量控制系统，实现精准气体控制 　紧凑坚固的外壳设计，易于安装在桌面实验室工作台等。 　[选项] 可增加电机驱动的自动滑动功能。 　[选项] 通过增加涡轮排气泵，可以沉积更高质量的石墨烯。 　[选项] 可将热电偶传感器引入炉内，直接监测样品温度。