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如何解决半导体圆晶生产过程中清洁效果不一致出现的问题

半导体间歇式清洗设备清洗液成分配比不稳定，清洗效果不一致。

我在半导体晶圆制造现场，但我在清洁过程中遇到了一些问题。

在批量清洗中，有些成分会蒸发，尤其是在液体达到高温的情况下。

但由于是液体，易蒸发，易起泡，普通的计量泵会造成气锁。

它还要求定量、清洁和耐腐蚀。

我们推荐具有高分配性能并且每次注射能够注入少量 1 mL 的 CFD 型泵。

在这种情况下，我们推荐每次注射可注入少量 1 mL 的“CFD 型泵"。

CFD 型泵具有气泡容易排出的结构，因此气泡不会留在泵内。

此外，接液部采用氟树脂制成，是一款清洁度高、耐腐蚀的泵。此外，CFD-1T-B 型号具有 1 mL/shot 的出色分辨率，适合保持化学溶液的成分比恒定。基于以上原因，我们认为“CFD型泵"可以解决半导体间歇式清洗设备的清洗液问题。请考虑这个机会。

1 mL 1 shot，高精度控制晶圆清洗液浓度化学品补给泵CFD

• 所有接液部件均由氟树脂制成，与酸、碱、氢等化学品兼容

• 行程长度可轻松调节，每次最多可排放2.7 mL

• 泄漏传感器是标准配置 设备