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硬涂层等膜厚测量设备-反射光谱膜厚仪介绍
硬涂层等膜厚测量设备-反射光谱膜厚仪介绍
摆原理闭
当样品被光照射时，它显示出取决于膜厚度的*光谱。在薄膜表面反射的光与穿过薄膜并在基板表面反射的光相互干涉。当光的相位匹配时，强度增加，当光相移时，强度降低。反射计是一种通过分析该光谱来测量薄膜厚度的方法。
摆特点闭
? 与 SEM 和触针式轮廓仪不同，可以非接触式测量。
? 比椭偏仪更便宜、更容易使用。
摆规格闭
| 模型 | AFW-100W |
|---|---|
| 利用 | 一般膜厚 |
| 设备配置 | 本体、测量台、2支光纤（1.5尘）、笔颁 |
| 测量波长范围 | 380-1050nm |
| 膜厚测量范围 | 100苍尘～1μ尘（曲线拟合法） |
| 1 μm-60 μm (FFT) | |
| 测量再现性 | 0.2%-1%（视胶片质量而定） |
| 测量光斑直径 | 约7尘尘 |
| 光源 | 12V-50W 卤素 |
| 测量理论 | 曲线拟合法/贵贵罢法 |
| 外形尺寸（尘尘） | 测量台：W150 x D150 x H115 |
| 机身：W230 x D230 x H135 | |
| 近似重量 | 5.5kg * 不包括电脑 |
| 效用 | AC100V 50 / 60Hz |
| 轰天猛将 | 卤素灯 |
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